Dr. RIMPLER SUN After Sun Mask Deep Repair

Diese kosmetische Spezialmaske kann sowohl als Hilfe für übermäßig sonnengestresste Haut angewendet werden als auch vorbeugend gegen lichtbedingte Hautalterung. SUN After Sun Mask Deep Repair basiert auf einer ausgewogenen Komposition pflanzlicher Aktivstoffe, die beruhigend wirken, Entzündungen hemmen und körpereigene Reparaturmechanismen stimulieren. Deshalb kann diese Maske ebenfalls für die Regeneration anspruchsvoller Haut verwendet werden.
Leitwirkstoffe: Baumwollsamenextrakt schützt vor UV-bedingten Hautschäden. Squalan aus der Olive sorgt für eine Relipidierung der Haut und Panthenol durchfeuchtet und stimuliert die Zellneubildung. Ein Extrakt aus der Tomate schützt vor freien Radikalen und stimuliert den Dark-Repair- Mechanismus der Haut für eine bessere Regeneration bei lichtbedingter Schädigung.

kühlende Spezialmaske für das Gesicht ・ intensiv regenerierend und feuchtigkeitsspendend ・ nach dem Sonnenbad und auch als over-night Produkt geeignet ・ für alle Hauttypen geeignet

Nach dem Sonnenbaden auf die gereinigte Haut, bevorzugt Gesicht, Hals und Dekolleté auftragen und für 15-20 Minuten einwirken lassen. Anschließend abwaschen und eine hautzustandsgerechte Ampulle und/ oder Pflegecreme auftragen.

Aqua, Prunus Armeniaca Kernel Oil, Crambe Abyssinica Seed Oil, Squalane, Cyclopentasiloxane, Glycerin, Arachidyl Alcohol, Cetearyl Alcohol, Cyclohexasiloxane, Panthenol, Behenyl Alcohol, Gossypium Hirsutum Extract, Solanum Lycopersicum Fruit/Leaf/Stem Extract, Helianthus Annuus Seed Oil, Tocopherol, Arachidyl Glucoside, Inulin Lauryl Carbamate, Menthyl Lactate, Dimethicone Crosspolymer, Xanthan Gum, Microcrystalline Cellulose, Cetearyl Glucoside, Cellulose Gum, Trisodium Ethylenediamine Disuccinate, Rosmarinus Officinalis Leaf Extract, Citric Acid, Ethylhexylglycerin, Phenoxyethanol, Alcohol, Parfum

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